Презентация "ВЛИЯНИЕ ЭЛЕКТРОМАГНИТНОГО ИЗЛУЧЕНИЯ НА ПРОЦЕСС ДЕГИДРАТАЦИОННОЙ САМООРГАНИЗАЦИИ

• 1 слайд

  ВЛИЯНИЕ ЭЛЕКТРОМАГНИТНОГО
  ИЗЛУЧЕНИЯ НА ПРОЦЕСС
  ДЕГИДРАТАЦИОННОЙ
  САМООРГАНИЗАЦИИ
  ВЫПОЛНИЛА:
  УЧЕНИЦА 11 КЛАССА «А»
  МБОУ ШКОЛА №14
  АНИСИМОВА ВИКТОРИЯ ВЛАДИМИРОВНА
  УЧИТЕЛЬ: АЛЕШИНА И.В.
  

• 2 слайд

• 3 слайд

  60 мм
  350 мм
  

• 4 слайд

  18
  29
  37
  30
  27
  13
  20 минут
  1 сутки
  5 суток
  Вывод: электромагнитное поле влияет на рост кристаллов, оказывает модифицирующее влияние на структурообразование
  

• 5 слайд

  Цель работы:
  Изучить модифицирующее влияние низкоинтенсивного электромагнитного излучения на структурообразовательные свойства веществ
  Задачи
  Разработать план эксперимента
  Провести эксперимент
  Обработать результаты
  

• 6 слайд

  Медный купорос без обработки
  1
  3
  6
  10
  15
  20
  25
  30
  

• 7 слайд

  Медный купорос с обработкой
  30
  25
  20
  15
  10
  6
  3
  1
  

• 8 слайд

  Таблица «Время структурообразования»
  Вывод:
  электромагнитное поле увеличивает время структурообразования кристаллов
  

• 9 слайд

  При высыхании раствора медного купороса в контрольных образцах (без облучения) и в пробирках с облучением были зафиксированы следующие показатели:
  Зависимость числа кристаллов от времени в медном купоросе
  3 6 10 15 20 25 30
  

• 10 слайд

  Интерферон 5000МЕ контроль
  

• 11 слайд

  Интерферон 5000МЕ ОИМП режим №1 (400 В; 0,5 Гц; 100 мкф) 5 мин обработки
  Интерферон 5000МЕ ОИМП режим №1 (400 В; 0,5 Гц; 100 мкф) 10 мин обработки
  Интерферон 5000МЕ ОИМП режим №1 (400 В; 0,5 Гц; 100 мкф) 20 мин обработки
  Интерферон 5000МЕ ОИМП режим №2 (400 В; 5 Гц; 10 мкф) 5 мин обработки
  Интерферон 5000МЕ ОИМП режим №2 (400 В; 5 Гц; 10 мкф) 10 мин обработки
  Интерферон 5000МЕ ОИМП режим №2 (400 В; 5 Гц; 10 мкф) 20 мин обработки
  

• 12 слайд

  Sобщ – общая площадь фации, Sвн.ч – площадь внутренней части фации, Sоб – площадь периферического ободка, Sоб/Sобщ – отношение площади периферического ободка к общей площади фации.
  Параметры фаций в интерфероне
  Вывод: отношение площади периферического ободка к общей площади фации пропорционально частоте электромагнитного поля
  

• 13 слайд

  Интерферон 5000МЕ ОИМП режим №1 (400 В; 0,5 Гц; 100 мкф) 5 мин обработки
  Интерферон 5000МЕ ОИМП режим №1 (400 В; 0,5 Гц; 100 мкф) 5 мин / спустя сутки после обработки
  

• 14 слайд

  Число образовавшихся кристаллов в интерфероне
  Вывод: число образовавшихся кристаллов пропорционально частоте электромагнитного поля
  

• 15 слайд

• 16 слайд

  С помощью метода клиновидной дегидратации обнаружено модифицирующее влияние электромагнитного поля разных частот на структурообразование в растворах CuSo4 интерферона:
  Электромагнитное поле увеличивает время структурообразования кристаллов;
  Число кристаллов больше в облученных образцах;
  Отношение площади периферического ободка к общей площади фации пропорционально частоте электромагнитного поля;
  Чем дольше интерферон подвергался облучению, тем сильнее деградация его структуры;
  При увеличении частоты электромагнитного поля скорость деградации возрастает;
  Число образовавшихся кристаллов в суточных образцах пропорционально частоте;
  По результатам действия электромагнитного поля можно определить качество интерферона.
  
  
  ВЫВОДЫ
  
  

• 17 слайд

  ПРАКТИЧЕСКАЯ ЗНАЧИМОСТЬ
  Для регулирования роста кристаллов может быть использовано модифицирующее действие электромагнитного поля;
  Интерферон может быть использован как индикатор воздействия электромагнитного поля;
  Возможность контроля качества интерферона.
  РАБОТЫ
  

• 18 слайд

  СПАСИБО
  ЗА ВНИМАНИЕ!